OpticStudio 17 版本釋出說明


OpticStudio 17 版本釋出說明

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1 目錄

1 目錄.... 2
2 摘要.... 4
3 序列式功能.... 5
3.1 對比度優化 (專業版與旗艦版). 5
3.2 多達50個視場點 (專業版與旗艦版). 6
3.3 超過200個視場點 (旗艦版). 7
3.4 全新視場資料編輯器 (所有版本). 8
3.5 視場設定精靈 (所有版本). 8
3.6 視場轉換工具 (所有版本). 9
3.7 最小/最大MTF操作數 (所有版本). 10
3.8 更新的CODE V檔案轉換器 (所有版本). 11
4 非序列功能.... 12
4.1 加強的光激發光模擬 (旗艦版). 12
4.2 奇次非球面的真實孔徑 (專業版與旗艦版). 14
4.3 更新的CAD動態連結 (旗艦版). 14
4.4 可建立ZRD檔的操作數 (專業版與旗艦版). 15
5 程式編寫.... 16
5.1 API範例檔 & 以及互動說明文件 (專業版與旗艦版). 16
6 全新線上版本.... 17
6.1 OpticStudio 線上版 (全新線上版). 17
6.2 OpticStudio 線上版:美國東岸及愛爾蘭(全新線上版). 18
7 操作性.... 19
7.1 忽略公差操作數 (所有版本). 19
7.2 更新的Zemax授權管理員 (所有版本). 20
7.3 自動存檔 (所有版本). 21
7.4 自訂Zemax資料存放位置 (所有版本). 22
8 系統性能.... 23
8.1 加強Spot X+Y 優化的性能 (所有版本). 23
8.2 編輯器速度改進 (所有版本). 23
9 說明文件.... 24
9.1 子午面角度計算 (所有版本). 24
9.2 更新的入門手冊 (所有版本). 25
9.3 Zemax研究室 (所有版本). 26
9.4 新功能測試 (所有版本). 27
9.5 研究調查 (所有版本). 28
10 資料目錄.... 28
10.1 新增的材料庫 (所有版本). 28
10.2 更新的材料庫 (所有版本). 29
10.3 新增的原器清單 (所有版本). 31
10.4 更新的原器清單 (所有版本). 31
11 錯誤修正.... 32



OpticStudio 17 包含了各種前所未有、設計光學系統的新功能
最新的OpticStudio® 17 將光學設計帶到了一個新的境界。現在OpticStudio優化MTF至少比之前快了30倍以上,能追跡比其他光學設計軟體更多的光線,透過新的API文件建立客製化的應用,並帶有最精確的螢光粉與磷光粉模擬。
目前OpticStudio的版本有標準版、專業版、以及旗艦版。以下新功能介紹都附帶說明相應的版本。要瞭解更多關於不同版本之間的不同,請看我們的網站或是聯繫在地的銷售團隊
標準版 的改進功能包含了新的視場資料編輯器、視場精靈,以及視場轉換工具。預設評價函數中的Spot X+Y已經加強,這是現在你優化最小光斑時最快速的工具。公差分析方面,現在你可以用最新的開關功能方便快速的測試各種公差。現在使用者將可以自訂設計檔的儲存位置,更多更新請看以下說明。
專業版 的新功能包含了所有標準版的部分,並多出了對比度優化新功能,此功能採用全新的Moore-Elliot方法來優化。此外現在你也可以使用全新的API文件介面,內有超過20個不同的範例,並各自對應到四種語言MATLAB、C++、C# 以及Python。
旗艦版 的新功能包含了所有標準版以其專業版的部分,並多出了可以設定超過200個視場點的功能,讓你可以用高精確度設計複雜的自由曲面系統。你也可以使用市面上最完善的螢光粉/磷光粉模型,來設計新的光激發光系統,例如說磷光太陽能集光器。旗艦版除了可單機運作的版本以外,現在還支援新的線上訂閱版本,稱為線上版

3.1 對比度優化 (專業版與旗艦版)

用最新的對比度優化功能精準的優化光學系統的MTF,加速至少30倍快
Zemax開發出了新的優化方法,稱為對比度優化,此方法建基於Moore-Elliott 理論,能夠針對目標的空間頻率,有效率地把MTF優化到最佳。這個開創性的方法以新的評價標準(Criterion)的形式被加入到優化精靈中。如果使用者用這個評價標準建立評價函數,將會看到編輯器中被自動加入MECS、MECT、MECA、MECX以及MECN等操作數。

MTF的優化對於希望在探測器上成一個二維影像,並有截止頻率的偵測器上特別有用,因為我們可以犧牲高頻來提高低頻的MTF,而這階高頻本來就是我們不需要的。過去,要優化MTF的話,我們必須要直接計算MTF,然後再優化,但問題是這樣做的速度比較慢,而且容易失敗。另一方面,對比度優化可以更精確的優化MTF,這代表你可以在早期設計中使用這個方法,即使在系統的像差還大的狀況下,也能愉快使用。此外,其優化速度跟直接計算MTF並優化相比,最高可加速50倍,能顯著地降低設計所需時間。
你可以在序列模式的優化精靈中找到這個新的對比度優化工具。優化精靈可以從選單的 “Optimize” 中找到。或是也可以先打開評價函數編輯器,並展開上面灰色的 “Wizards and Operands” 區塊來找到優化精靈。

3.2 多達50個視場點 (專業版與旗艦版)

透過多達50個視場點,有效率的優化並分析非旋轉對稱系統的公差
在前一個OpticStudio版本中,在序列模式中分析、設計、並分析成像系統的公差時,只有12個視場點可以使用。現在專業版中,你可以使用多達50個視場點。

透過設定50的視場點,你可以在序列模式中的一個組態中,就分析多達50種的光路徑。在優化以及公差分析的過程中,所有這些視場點都會被考慮到,這對於設計離軸或是非旋轉對稱的系統來說,非常的有用。此外,能在一個組態中包含所有可用的視場點,對於設定有多種溫度、氣壓或是對焦的系統來說也非常方便。
注意只有最前面的12個視場會被顯示在系統檢視視窗或是其他分析功能。如果你希望可以在分析視窗中查看超過12個視場的話,請不吝與我們聯繫。
你可以在視場資料編輯器中,找到設定這些額外視場點的方法。你可以在System Explorer中的Field區快找到開啟視場資料編輯器的按鈕,或是也可以在選單的Setup > Editor區塊中找到。

3.3 超過200個視場點 (旗艦版)

透過超過200個視場點,精準模擬並設計高度複雜的自由曲面系統
在前一個OpticStudio版本中,在序列模式中只有12個視場點可以使用。現在旗艦版中,你可以使用超過200個視場點。

透過超過200個視場點,你可以精確的模擬、分析並分析高複雜度的自由曲面系統的公差。需要更多視場點的原因是因為通常自由曲面需要非常高的取樣密度,以模擬不同視場下詳細的波形以及像差的變化。現在,藉由在同一個結構中設定超過200個視場點,我們可以更簡單的建立多重組態系統,來模擬溫度、氣壓或是鏡群位置的變化。
注意只有最前面的12個視場會被顯示在系統檢視視窗或是其他分析功能。如果你希望可以在分析視窗中查看超過12個視場的話,請不吝與我們聯繫。
你可以在視場資料編輯器中,找到設定這些額外視場點的方法。你可以在System Explorer中的Field區快找到開啟視場資料編輯器的按鈕,或是也可以在選單的Setup > Editor區塊中找到。

3.4 全新視場資料編輯器 (所有版本)

使用全新視場資料編輯器,輕鬆的編輯並整理你的序列模式視場點
視場資料編輯器已經更新,現在包含了跟評價函數編輯器、鏡頭資料編輯器以及其他OpticStudio編輯器一樣的功能。

現在要檢視、整理或是排序大量視場點比以前簡單多了。增加的功能包含了註解、拾取求解 (Pick-up)、右鍵選單、同時複製貼上複數格子的資料、改變順序、改變大小、隱藏欄位、使用Insert/Delete來新增或移除視場、以及更多許多沒提到的功能。
你可以在System Explorer,或是選單的Setup > Editors群組中,找到視場資料編輯器。

3.5 視場設定精靈 (所有版本)

使用視場設定精靈自動、有系統的產生規律分布的視場點
視場設定精靈可以根據選擇的分布方法來自動填滿視場資料編輯器。可用的分布方式包含:均勻Y視場、等面積Y視場、均勻X視場、等面積X視場、網格、均勻徑向視場、等面積徑向視場。

這個新的視場精靈讓你不再需要手動輸入資料,節省時間並避免可能的輸入錯誤。這個精靈工具對於需要在視野中高度取樣的設計來說特別有用。
你可以在System Explorer,或是選單的Setup > Editors群組中,找到視場資料編輯器。

3.6 視場轉換工具 (所有版本)

使用視場轉換工具,快速的在不同的視場定義之間切換
視場轉換工具輕鬆地把視場型態從一個定義轉換到另一個。舉例來說,你可以把用角度 (Angle) 定義的視場點等效轉換到對應的物高 (Object Height) 定義視場。

這個新工具讓你不再需要手動輸入,避免手動在兩個視場之間切換可能的錯誤。現在,在設計過程或是在比較不同檔案時,切換視場型態要比以前簡單多了。舉例來說,我們常常會在開始設計使用像高 (Image Height) 來設計,但是我們並不推薦在最終設計版本時使用這個視場型態,而建議在最後改使用物高或是角度。
你可以在視場資料編輯器的選單中的Field Type找到新的視場轉換工具。你可以在System Explorer,或是選單的Setup > Editors群組中,找到視場資料編輯器。

3.7 最小/最大MTF操作數 (所有版本)

使用最小/最大MTF簡化你的評價函數並確保你的系統符合所需的MTF指標
現在你可以在評價函數中使用新的MTF操作數顯示子午面及弧矢面之間最大或最小的MTF響應。在之前的OpticStudio版本中,你只能計算弧矢、子午或是平均值。最大最小MTF的話需要至少三行才能計算。

這些新的操作數簡化了評價函數,讓他保證弧矢以及子午方向的MTF都符合所需的規範。要知道更多如何改變光瞳上子午與弧矢的方向,請參考看9.1小節關於子午角度計算的說明。
你可以在序列式評價函數編輯器中找到全新的MTFX以及MTFN操作數。評價函數編輯器本身則可以在選單的Optimize中。
http://forum.zemax.com/Uploads/Images/ef08cf09-4008-4a09-97c5-ae13.png

3.8 更新的CODE V® 檔案轉換器 (所有版本)

快速的把 *.SEQ檔轉換為OpticStudio序列式設計
CODE V檔案轉換器已經大幅改進,現在可以更好的處理複數個不同權重視場、自訂玻璃材料、鏡面基板、Q-Type非球面表面特性、Q-Type非球面係數、矩形孔徑、包含不同波長權重以及視場權重的多重組態、包含不同Y視場的多重組態、包含不同材料的多重組態、以及全域座標系統的轉換。

現在只要一個步驟,你就可以把CODE V檔案轉換為OpticStudio序列檔案,包含非旋轉對稱、離軸、以及多重組態的系統。請注意仍然有部分特殊的CODE V指令無法被自動轉換。請看OpticStudio的說明文件以瞭解可支援轉換的指令。
CODE V®是Synopsys公司的註冊商標。你可以在選單File裡面的Convert File Formats下拉式選單中,找到CODE V檔案轉換器。

4.1 加強的光激發光模擬 (旗艦版)

使用比任何其他光線追跡軟體都還要精準的光激發光模型,模擬更廣泛不同的螢光粉以及磷光粉
OpticStudio在以光線模擬螢光或磷光效應時,現在能完整考慮波長相依的問題了。改良的模型中能根據波長相關的平均自由徑來考慮螢光的再吸收效應,以及空間相關的效應。在此之前,平均自由徑並不會根據入射光的波長來縮放,因而每次光線在大約行走一段平均自由徑之後,會發生一次螢光散射事件,而跟該光線的波長對應到的吸收係數無關。

這些改良讓OpticStudio在用光線模擬光激發光模型時比其他光線追跡軟體還要精確。現在你可以模擬更多形式的螢光粉與磷光粉,並能完整考慮有頻譜、帶有不同波長的入射光源,其空間以上及波長相關的影響。舉例來說,你可以設計給太陽能電池用的磷光集光器,OpticStudio的磷光模型讓你可以模擬入射太陽光的波長被降轉到對太陽能電池比較有效率的波長的過程,並且還可以完整考慮散射、再輻射、TIR等效應,完整地針對集光器跟太陽能電池優化。
你可以在非序列元件編輯器中物件屬性 (Object Properties) 的Volume Physics選項中找到螢光粉與磷光粉 (Phosphors and Fluorescence) 的模擬設定。非序列元件編輯器本身可以在非序列模式的Setup選單中的Editors區塊開啟。

4.2 奇次非球面的光機構孔徑 (專業版與旗艦版)

設計複雜、擁有真實孔徑結構的鏡片組件
最新版中,我們把模擬真實孔徑 (稱為光機構半徑) 的功能再次擴充了,現在他們支援更複雜的物件。OpticStudio現在可以自動把帶有真實孔徑的奇次非球面 (Odd Asphere) 表面轉換到非序列模式中,以供進一步的雜散光分析。奇次非球面物件現在能夠跟序列模式的奇次非球面孔徑一樣支援光機構半徑。


真實孔徑的設徑包含了三個孔徑參數 (光學半徑、延伸區、以及機構半徑),這讓使用者可以用跟製造時一樣的方式生產這些徑片元件。
你可以分別在序列模式的鏡頭數據編輯器中找到奇次非球面表面,並在非序列元件編輯器中找到奇次非球面物件。

4.3 更新的CAD動態連結 (旗艦版)

在OpticStudio中編輯並優化SolidWorks 2017以及Autodesk Inventor 2018的CAD元件
我們更新了動態CAD連結功能,現在他支援最新版的Solidworks 2017以及Autodesk Inventor 2018。

你可以在OpticStudio中開啟最新版的SolidWorks、PTC Creo Parametric以及Autodesk Inventor的原始CAD檔案。
你可以在非序列元件編輯器中找到這兩個相關物件:「CAD Part: Autodesk Inventor」、「CAD Part: SolidWorks」

4.4 可建立ZRD檔的操作數 (專業版與旗艦版)

使用全新的非序列評價函數操作數,能在優化之後自動儲存光線資料庫檔案
你現在可以在評價函數編輯器中使用特殊的操作數,來建立非序列光線資料庫檔 (*.zrd) 了

這代表你可以儲存所有的光線追跡資訊,並用來優化你的非序列系統,以供優化完成後的進一步分析。這可以節省大量時間,並避免使用者優化後,還要額外花時間在追跡一次的麻煩。
你可以在非序列評價函數編輯器中找到NSRD這個操作數。評價函數編輯器可以在選單的Optimize中找到開啟

5.1 API範例檔 & 以及互動說明文件 (專業版與旗艦版)

透過完整的文件,以及全新四種語言的範例檔 (MATLAB®、Python®、C#、C++) 快速學習如何使用OpticStudio的API應用程式連結
ZOS-API介面文件,以及介紹教學元件現在被合併在一起了。你可以在說明文件中找到各種常見功能、工具、以及分析功能的程式碼片段,他們之間在Help文件中互相連結。我們同時還改進了搜尋功能以及目錄分類,並加入共四種語言MATLAB®、Python®、C#、C++的80個程式碼範例。

合併API的介面以及說明文件讓使用者可以更快速的學習API的使用,並且從舊的DDE語言轉移過來。你可以在我們範例程式碼裡面,快速瞭解各種常用指令的使用方法。
你可以在選單的Programming裡的ZOS-API Help下拉式選單中找到ZOS-API介紹以及語法說明

6.1 OpticStudio 線上版 (目前僅限於美國與歐洲地區)

使用全新OpticStudio線上版本上你可以從任何有瀏覽器的裝置開啟任何的OpticStudio檔案
線上版預計在2017年底向亞洲地區開放,請注意以上時程可能隨時更動

新的OpticStudio線上版本讓使用者可以從任何地方用瀏覽器使用完整的旗艦版功能。Zemax建立的專業的伺服器來執行OpticStudio旗艦版,使用者可以通過瀏覽器,以優化過的串流視訊方式操作。我們把這個新版本稱為線上版。線上版需要額外購買授權才能使用,他是每年租借的形式,將能夠享有所有重大更新,軟體修正,以及技術支援服務。
OpticStudio線上版不需要硬體。你不需要擔心OpticStudio安裝上是否有問題、軟體是否有更新、或是授權是否有問題。你只需要打開瀏覽器、登入你的帳號,開啟OpticStudio,就可以馬上開始設計。你可以用你的電腦、平板、智慧型手機、MAC、iPad或是Chromebook就能操作。

OpticStudio線上版來有一個新的協作功能,讓你可以很輕鬆地跟相隔兩地的同事合作。當你點選“分享螢幕 (Share Session)”,並把產生的連結寄給同事後,他就可以從瀏覽器加入,觀看你的設計過程。你們兩個都可以看到相同的OpticStudio畫面,並且你還可以即時的分享軟體控制權給你的同事。

6.2 OpticStudio 線上版:美國東岸及愛爾蘭(目前僅限於美國與歐洲地區)

美國東岸跟歐洲新增伺服器
線上版預計在2017年底向亞洲地區開放,請注意以上時程可能隨時更動

我們正在全世界增加更多的資料伺服器,以改進我們的OpticStudio線上版使用。這些新的伺服器將能改進美國東岸跟歐洲的反應速度。

在這裡 檢查連線速度,以了解哪個伺服器比較適合你

7.1 忽略公差操作數 (所有版本)

使用新的“Ignore”開關,以在公差資料編輯器中快速測試並儲存不同的公差操作數
現在你只要點一下滑鼠,就可以決定要不要在分析公差時忽略公差資料編輯器中的特定公差操作數

比起在公差資料編輯器中刪除並重新加入操作數,你現在可以輕鬆地在分析公差時選擇“Ignore this Operand During Tolerancing”來忽略這個操作數。這讓使用者可以簡單地測試並儲存各種不同的公差設定。
你可以在公差資料編輯器中的Operand Properties對話框中找到 “Ignore this Operand During Tolerancing”的選項。你可以在選單的Tolerance中找到公差資料編輯器 (Tolerance Data Editor)

7.2 更新的Zemax授權管理員 (所有版本)

確保你的OpticStudio授權是安全的,並且使用最新的Zemax授權管理員
Sentinel LDK runtime程式庫已經更新到7.55版。此外,現在當你轉移一個授權到其他電腦時,將會有一個包含了授權碼以及其他細節資訊的通知信同時寄出。

此次更新在Zemax授權管理員加入最新的安全技術,並讓轉移金鑰更加容易。
你可以在選單的Help中找到並開啟Zemax授權管理員,或是以獨立的方式直接開啟這個程式

http://forum.zemax.com/Uploads/Images/7792531a-381a-431c-ab0b-a0d1.png

7.3 自動存檔 (所有版本)

新的自動存檔機制降低資料損失的風險
新的自動存檔功能自動儲存你在OpticStudio設計中做的各種改變。ZMX以及ZDA資料都會被自動儲存。儲存的間隔時間以及檔案儲存位置都可以手動調整。


自動存檔降低電腦當機、卡住時損失資料的風險。現在所有的光學系統資訊以及計算好的分析資料都會自動儲存,你不需要擔心你上一次儲存檔案是什麼時候,也不需要定時打斷工作去儲存檔案。
你可以在選單Setup下的Project Preference中找到自動存檔 (Autosave) 的相關設定
http://forum.zemax.com/Uploads/Images/e6ea3c05-76f2-4738-87a3-cfc6.png

7.4 自訂Zemax資料存放位置 (所有版本)

自訂所有Zemax資料檔的位置
你現在可以把Zemax資料夾重新導向到任何自訂的位置。在之前的OpticStudio中,這個資料夾會自動安裝在「我的文件」資料夾中,並且無法修改。

現在,你可以把所有的Zemax檔案放到你覺得最方便的地方。如果在你的電腦上,「我的文件」被重新導向到公司網域的話,這個功能會特別有用。
你可以在Setup選單的Project Preference中找到自訂Zemax資料夾的選項。

8.1 加強Spot X+Y 優化的性能 (所有版本)

用加強的Spot X+Y預設評價函數更快速的優化你的光學系統
我們改良了優化X+Y Spot的演算法。這是預設評價函數的其中一個基準選項,你可以從評價函數精靈中建立基於評價函數。

使用Spot X+Y基準建立預設評價函數讓你可以更快速的達到更好的設計。Spot X+Y評價函數優化速度顯著的比所有以前的OpticStudio以及Zemax更快。你的光學系統越複雜,這個新演算法就可以省下你越多時間。舉例來說,一個使用到Chebyshev表面並用90x90矩形陣列取樣的系統,可以用比以前快30%的速度優化,並且也比RMS Spot Size快40%。
你可以在序列模式的優化精靈中找到Spot X+Y評價函數基準的選項。優化精靈本身可以在選單的Optimize找到,或是經由展開評價函數編輯器的Wizards and Operand對話框來看到。

8.2 編輯器速度改進 (所有版本)

經由最新的系統調校,你可以更快速的瀏覽、滑動OpticStudio的編輯器
我們大幅改進了當編輯器中有大量資料時的效能,例如在評價函數編輯器中使用非序列點陣圖優化精靈建立大量操作數時,在編輯器中加入新操作數或是選擇所有資料時的反饋速度比之前更好了。在編輯器中滾動資料的效率也上升10%。

這個改進能節省你的時間,並加強所有OpticStudio中編輯器的可用性。
你可以在Setup選單中找到所有的OpticStudio編輯器

9.1 子午面角度計算 (所有版本)

透過調整視場的TAN設定,以任意的光瞳方向分析MTF、波前差、像差以和其他各種資訊
以前在視場資料編輯器中,有一個叫做TAN的參數,名稱是漸暈角度 (Vignetting Angle),現在我們正式把它改為子午面角度 (Tangential Angle),參數代號改為TAN,原因是你可以使用這個設定來旋轉多種分析功能中的子午跟弧矢方向定義,例如說MTF計算或是全新的對比度優化功能。若需要更多關於對比度優化的資訊,請看第3.1節。

MTF是最常見用來分析不同旋轉下性能變化的指標。在複雜的光學系統中,我們經常需要改變光瞳方向,然後分析MTF的變化。舉例來說,在一些離軸或非旋轉對稱的系統中,你可能會需要同時檢查單一視場的子午/弧矢方向以及+/- 45 度旋轉的MTF資料。
你可以在視場資料編輯器中找到TAN旋轉的設定。視場資料編輯器可以在System Explorer中找到。

9.2 更新的入門手冊 (所有版本)

透過內建的教學入門手冊快速的熟悉使用OpticStudio
我們更新並擴充了OpticStudio入門手冊中的教學範例。我們帶你走過光學設計,並示範如何使用OpticStudio介面、如何定義序列模式面、建立多重組態系統、輸出CAD檔、優化序列式系統、定義非序列物件、優化非序列系統,並模擬色彩、偏振、鍍膜、以及散射。

你可以在選單的Help中找到入門手冊

9.3 Zemax研究室 (所有版本)

加入Zemax的功能測試及研究
Zemax研究室是OpticStudio的Help選單中的新區塊。這個選單是用來測試新功能並調查使用意見的,我們非常歡迎你的任何寶貴意見。
http://forum.zemax.com/Uploads/Images/5a17ae73-ac00-4c5f-9b79-5a3d.png

9.4 新功能測試 (所有版本)

瞭解未來方向並測試可能的新功能
在功能測試 (Feature Experiments) 下拉選單中,你可以提早測試一些我們考慮加入到下一個版本OpticStudio的新功能。這些新功能沒有完整說明文件,因此測試時請不吝告訴我們你的任何問題。在上方工具列中,你可以看到一個Send Feedback的按鈕。點一下這個按鈕將讓你可以寄出一封信到技術支援團隊。
http://forum.zemax.com/Uploads/Images/a1339445-9887-4b45-8114-86c9.png
在最新版OpticStudio 17中,功能實驗清單中包含了一個選項:對比度損失分析 (Contrast Loss)。
http://forum.zemax.com/Uploads/Images/aab7f11c-7887-4b26-84e5-e498.png
對比度損失分析顯示MTF以及對比度在光瞳上是如何損失的。這個工具是設計來跟新的對比度優化功能協同運作的。對比度優化的部分請參考第3.1節。

聯絡Zemax技術支援服務,以取得更多對比度損失分析。

9.5 研究調查 (所有版本)

參與型塑Zemax未來功能。
研究調查下拉式選單會在Zemax想要使用者填寫問卷協助時顯示。
http://forum.zemax.com/Uploads/Images/d4196c04-25f6-4f2c-b13a-1ddd.png

10.1 新增的材料庫 (所有版本)

來自Kopp Glass的全新材料庫
OpticStudio現在包含了新的來自Kopp Glass的材料目錄。這個目錄包含了23個新玻璃。

你可以在選單的Libraries中找到材料庫 (Material Catalog) 的功能
http://forum.zemax.com/Uploads/Images/6521dab3-f3db-4ca1-adbd-d568.png

10.2 更新的材料庫 (所有版本)

最新的Ohara、Osaka Gas Chemical、以及Zeon材料庫
Ohara材料庫中的以下幾個玻璃已經更新:
l S-LAL20
l S-LAH52Q
l S-LALH54Q
l S-LAH98

Osaka Gas Chemical的材料庫已經更新OKP4HT的熱相關係數。

Zeon材料目錄已經更新了所有ZEONEX系列材料的熱相關係數。在ZEONEX材料庫中,名稱結尾是2016的材料現在都被設為過期,而應該改用材料名稱結尾是2017的ZEONEX材料。此外,對於材料ZEONEX_E48R_2017來說,除了熱相關係數的更新之外,色散係數也有修正。

10.3 新增的原器清單 (所有版本)

全新JML公司的原器清單
OpticStudio現在加入了JML Optical公司的原器清單,名稱是JML_cylindrical.tpd。此清單包含了1077個新的原器。

在OpticStudio中,我們可以透過原器擬合工具來利用原器清單,可以讓我們自動把現有光源系統的曲率半徑擬合到指定廠商的原器清單中。
你可以在選單的Optimize中找到原器清單以及原器擬合工具

10.4 更新的原器清單 (所有版本)

來自以下公司最新的原器清單II-VI Incorporated、Raytheon ELCAN Optical Technologies、POG GmbH以及Tuscon Optical Research Corporation
II-VI公司的原器清單已經更新,現在包含了1104個原器資料。
Raytheon ELCAN公司的原器清單已經更新,現在包含了13006個原器資料。
POG GmbH公司的原器清單已經更新,現在包含了2175個原器資料。
Tuscon Optical Research Corporation公司的原器清單已經更新,現在包含了924個原器資料。
以下原器清單已經過期,並從安裝檔中移除Davidson Optronics.tpd、Janos.tpd、JDSU.tpd、MediVision.tpd以及Model.tpd。
OpticStudio 17 包含了以下改良以及錯誤修正。
序列模式
· Ray aiming 演算法- Ray Aiming的演算法現在已經針對廣角系統改良。
· GRADIUM 表面 – 修正了一個在溫度與氣壓變動的系統中,計算GRADIUM表面的等效焦距時發生的問題。
· MIRROR 表面 – 一個關於當系統溫度有變化、表面為鏡面且TCE不為零的時候,對中心厚度的計算問題已經修正。這個問題僅有在鏡片的中心厚度在一般溫度下為0時會發生。
· 波前分析 – 分析工具Wavefront Map下面報告的RMS波前差現在會使用跟RMS vs. Field分析工具一樣的演算法了。
· FFT PSFHuygens PSFWavefront MapFoucault、以及Interferogram analyses – 以下工具在計算每個像素中間座標時的問題已經修正:FFT PSF、Huygens PSF、Wavefront Map、Foucault以及Interferogram。這個修正主要跟選擇“Graph”標籤時有關,而跟選擇“Classic”標籤時無關。
· 幾何 MTF 分析- 對於無法追跡主光線到達像面的系統,現在如果使用者嚐試用繞射極限來等比例縮放幾何MTF的計算結果,將會看到錯誤訊息。 (在此之前,幾何MTF會直接回報出錯誤的計算結果。)
· 光跡圖 (Footprint Diagram) – 一個在OpticStudio 16.5 SP5時發生的,可能讓光跡圖顯示空白或錯誤結果的問題,現在已經修正。
· 成本估價工具 - 一個成本估價工具無法從ZMX檔中讀取全部的鏡頭數據編輯器問題已經修正。
· 成本估價工具 - 原本成本估價工具允許凸面與平面同時被選取的問題已經修正。
· POWF 評價函數操作數 - 使用評價函數操作數POWF計算X/Y等效焦距,且該視場的TAN (以前稱為VAN) 不為零時會出現的計算問題已經修正。
非序列模式
· 光激發光物件 - 原本在光激發光材質中散射的光線的偏振態會跟傳播方向不垂直的問題已經解決。
· 折射率漸變物件 - 非序列的漸變折射率使用的光線追跡演算法現在已經改進。
· Detector Surface 物件 - 一個關於在Detector Viewer中顯示Detector Surface物件的總能量的且系統單位是流明時的問題已經修正。
· 輻射量轉換至RGB - 我們加入了一個IColorTranslator介面,幫助使用者轉換輻射分析值到偽色法的RGB值。


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