OpticStudio 17.5 版本釋出說明


OpticStudio 17.5 版本釋出說明

Author
Message
Zemax_Taiwan
Zemax_Taiwan
Forum Member
Forum Member (1K reputation)Forum Member (1K reputation)Forum Member (1K reputation)Forum Member (1K reputation)Forum Member (1K reputation)Forum Member (1K reputation)Forum Member (1K reputation)Forum Member (1K reputation)Forum Member (1K reputation)

Group: Administrators / Zemax Staff
Posts: 214, Visits: 2.5K

17.5 版本說明
2017年11月16日

1 序列模式功能

1.1 對比度損失圖(專業版與旗艦版)

將MTF的損失在光瞳上視覺化。
獲取MTF在光瞳上損失的資訊,並以此資料作為參照來提升系統的MTF。

最新的對比度損失圖工具會把在對比度優化過程中運用到的對比度損失計算以作圖形式視覺化。對比度優化是OpticStudio 17中新加入的功能。對比度優化的評價函數與MTF評價函數同時找到最小值,但是使用對比度優化操作數比直接優化MTF會讓優化進程更加迅速且簡便。
在對比度損失圖中的圖樣代表了光瞳上導致MTF損失的區域。對於光瞳上的每個取樣點,圓圈的大小代表了對比度損失的量;順時針旋轉的指針代表了波前差的大小。
對比度損失圖可以在分析功能表中的“MTF”下拉式功能表中找到。

1.2 增強了視場資料編輯器的功能(所有版本)

在設計大視場系統時更易管理多個視場點。

在視場資料編輯器中加入了以下功能,使其更具自由度、更便於進行系統設置:
· 快速開關視場點–使用新增加的“Ignored”選項,來包含或剔除系統中的特定視場點。
· 使用先前視場的資料運算–在權重欄和漸暈係數欄新增拾取求解,以使得先前視場的資料可用以運算。
· 快捷地進行多重結構間切換–在視場資料編輯器頂部多重結構工具條中切換當前結構。

1.3 視場可視圖(所有版本)

在進行自由曲面設計時確保視場有正確的取樣。
新增視場可視圖,可以顯示當前結構的視場點。使用這個功能,您可以看清視場點的分佈,而無需從佈局圖 (Layout)中觀察。

視場可視圖在視場資料編輯器的右側。您可以使用箭頭按鈕隱藏視場可視圖。

1.4 簡化的評價函數編輯器(所有版本)

方便地建立正確的評價函數。
在評價函數編輯器中,現在可以更方便地選擇正確的優化方式與設置。

簡化了評價函數嚮導的使用者介面,目前在預設評價函數標準中含有四種優化方式:
· Wavefront–以波數計量波前差
· Contrast–使用OpticStudio 17新增的對比度優化法來對MTF進行優化
· Spot–同時計算像空間裡x與y方向上的光線像差
· Angular–同時計算像空間裡x與y方向上的角度像差
Spot與Angular標準都能把x與y方向分開考慮,並針對這兩個方向同時進行優化。像差的符號會被分別保留,因此在優化過程中能夠獲取更好的導數結果。

2 可用性

2.1 偽彩色主色調(所有版本)

可根據資料類型選取合適的主色調以突出重點區域。
在配置選項中為所有含有偽彩色選項的分析視窗選取顏色譜。對於多數色盲人群而言,新的顏色主色調非常容易區分。
您可以在配置選項下的繪圖選項卡中找到這項設置。“Spectrum”是預設選項,它是基於廣泛使用的Jet色圖配置的,然而它也有其缺點。“Viridis”和“Magma”對於灰度列印以及色盲人群而言更加友好。

3 程式設計

3.1 在命令列運行ZPL巨集(專業版與旗艦版)

可在命令列介面運行自動化與定制化的OpticStudio計算。

無需進入OpticStudio使用者介面,您就可以在Windows命令列裡運行ZPL巨集。

4 資料庫

4.1 ESSENTIAL MACLEOD膜層(所有版本)

使用Essential Macleod公司提供的膜層資料使得您的模擬更加精確。
推薦使用真實的薄膜資料而非近似或理想化的定義。Essential Macleod公司提供的膜層資料已經新增到了預設的膜層檔中,即COATING.DAT。這些真實膜層的應用包含了消除反光、冷鏡、分光器、 增強反射以及近紅外。

如需獲取更多資訊,請閱讀以下知識庫文章: http://customers.zemax.com/os/resources/learn/knowledgebase/macleod-coatings-typical-examples

4.2 來自圖書PERSPECTIVES ON MODERN OPTICS AND IMAGING的全新範例檔(所有版本)

通過新的光學參考方案更快上手設計。

Ronian Siew的新著Perspectives on Modern Optics and Imaging中的範例檔已經加入到了安裝包中。可選取14個新範例的檔案作為設計的初始結構來開展您自己光學設計。
範例檔保存在以下路徑:Samples\Design Applications\Perspectives on Modern Optics and Imaging by Ronian Siew。

4.3 其它資料庫更新(所有版本)

以下供應商的資料庫檔案進行了更新:CDGM、UMICORE、Edmund Optics以及Ushio Opto Semiconductors。
材料庫:
· 更新了CDGM材料庫以增加20餘種新材料。其它材料也更新輔助資料如相對價格與熔煉頻率。
· 更新了UMICORE材料庫以加入新材料GASIR 5。
庫存鏡頭:
· 更新了Edmund Optics透鏡庫以加入一系列非球面消色差透鏡。
Radiant光源模型庫:
· Epitex已更名為Ushio Opto Semiconductors,並且在Radiant光源模型庫中增加了2個新光原始檔案:EDC850DS-1100-S5; 850 nm (Epitex Series)以及SMBB850DS-1100-03; 850 nm (Epitex Series)。
測試樣板庫:
· 以下測試樣板庫已經廢棄並從安裝包中剔除:bmoptik.tpd以及Cosmo.tpd。
IS散射庫:
· Edmund Optics NT43-043 乳濁玻璃勻光器現已廢棄因為Schott不再生產乳濁玻璃。

5 錯誤修正

OpticStudio 17.5包含了以下性能提升與錯誤修正:
序列模式
· 表面的全域座標 – 在序列模式中在多個座標間斷以及無光焦度表面後,表面的全域座標現在可以正確計算。
· IMSF操作數 – 含有多個IMSF操作數的評價函數現在可以正確計算。
· CAD匯出 – 帶洞的反射鏡現在可以精確地匯出成CAD檔案。
· Q型非球面 – Q型非球面的歸一化半徑在使用新增反射鏡工具後能夠正確地被修改。
· ISO元件製圖 – 在ISO元件製圖中單側新增公差資料時的一個問題現已修復。
· 惠更斯MTF分析 – 在無焦系統中計算惠更斯MTF時的一個錯誤現已修正。
· 波前圖分析 – 在波前圖下方的RMS波前差的計算方式已經更新,以使其與RMS vs. 視場工具中未移除波前傾斜的結果匹配。
· FFT與惠更斯PSF分析 – 當歸一化核取方塊不再選定時,FFT與惠更斯PSF的二維圖尺規現在改為從0到1(而非從0到PSF的最大振幅)。
· 惠更斯PSF分析 – 當只有一個系統波長時,現在惠更斯PSF可以在選取所有系統波長時正確計算結果。

非序列模式
· Torus漸變折射率DLL – 當Torus漸變折射率DLL在使用時產生的一個幾何錯誤現已修復。
· 環形陣列物體 – 改進了光線在環形陣列物體中追跡時的性能。
· 檔案光源 (Source File) – 當波長漂移選項開啟時,檔光源現在可以正確地模擬螢光。
· 體散射 – 波長漂移現在正確地考慮了斯托克斯位移。

程式設計
· 關鍵字NSTR–一個會導致運行ZPL關鍵字NSTR時不執行光線追跡的問題現已解決。
· 關鍵字OPTIMIZE–一個會導致運行ZPL關鍵字OPTIMIZE時彈出無效的錯誤提示的問題現已解決。
· 命令GetOperandValue–一個會導致ZOS-API GetOperandValue 的返回值總是零的問題現已解決。
· 資料項目SetSolve–一個會導致DDE資料項目SetSolve 的返回值總是零的問題現已解決。

6 其它已知問題

請注意以下已知問題:
· 非序列模式佈局圖 (Layout) - 由於繪圖資料庫中的一個錯誤,非序列模式下佈局圖在縮小後,光線看起來不能打到正確的探測器圖元上。僅在放大後,光線才能看起來打到了正確的探測器圖元上。此問題目前修正中,注意這僅會影響顯示,而不影響計算結果。
· 視場資料編輯器 - 當在視場資料編輯器中選擇任一格子或是任一整橫列,背景的反白顏色有時候會消失。不過不影響編輯資料。重新開啟編輯可以暫時修復這個問題。

GO


Similar Topics


Login
Existing Account
Email Address:


Password:


Select a Forum....



































Zemax Users Forum


Search