OpticStudio 18.7 (2018年8月21日リリース)


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1.1 画像エクスポートの強化 (すべてのエディション)

カスタマイズ可能な保存オプションでプレゼンテーション品質の画像を生成
高解像度画像の共有やプレゼンテーションでの使用が、より簡単になりました。本アップデートにより、余分な手順を要することなく、プレゼンテーション品質の解析結果の画像やレイアウト プロットを生成することが可能です(図1.1.a 参照)。

図1.1.a. 解析ウィンドウのツール バーにある「名前を付けて保存」ボタン
大部分の解析ウィンドウやレイアウト ウィンドウの画像保存時に、ラスター画像保存形式(PNG/JPG/BMP) の解像度を指定することができます (図 1.1.b 参照)。

図1.1.b. ラスター画像保存時の「名前を付けて保存」ダイアログ ボックス
[名前を付けて保存] (Save As) ダイアログの設定で、画面上の解像度を使用するか、カスタムで設定するかを選択することができます。カスタムで設定する場合は、保存画像の幅と高さを指定することができます (図 1.1.c 参照)。

図1.1.c. カスタム解像度選択時の保存設定
大部分の解析ウィンドウでは、ベクター・グラフィック形式 (SVG) での保存が可能です (図1.1.d 参照)。本形式で保存された画像は、画質を損なうことなく拡大やスケーリングができ、どのような解像度でも印刷することが可能です。

図1.1.d. ベクター・グラフィック保存時の「名前を付けて保存」ダイアログ ボックス
ラスター画像保存のデフォルトでの環境設定は、[プロジェクト環境設定] (Project Preferences) > [グラフィックス] (Graphics) から設定することができます(図1.1.e参照)。

図1.1.e. プロジェクト環境設定のグラフィックス設定
本機能の制限事項の詳細については、ナレッジベース記事をご参照ください。

1.2 エクスプレス ビュー (すべてのエディション)

サイズが大きいファイルのエディタで、面やオブジェクト、オペランド間を高速遷移
動的機能と引き換えに、エディタの応答速度を大幅に改善する新しいビューを追加しました。[エクスプレス ビュー] (Express View) の使用中は、従来のエディタに比べて、多数行でのスクロールが高速になり、また行データのバッファー遅延を感じることがなくなります。
本ビューは、[レンズデータ エディタ] (Lens Data Editor) や [ノンシーケンシャル コンポーネントエディタ] (Non-Sequential Component Editor) を含む、全ての主要エディタで使用可能です。通常のビューではエディタの全機能が適用されますが、エクスプレス ビューでは速度を重視するため、必須機能のみが適用されます。従って、多数の面やオブジェクト、オペランド間を遷移する必要がある際に、エクスプレス ビューの効果が最大限に発揮されます。

図1.2.a. レンズデータ エディタのエクスプレス ビューの切り替えボタン
2つのエディタ ビューの切り替えは、[エディタ ツールバー] (Editor Toolbar) にある [エクスプレス ビュー切り替え] (Toggle Express View) ボタンを使用 (図1.2.a参照) するか、ショートカット キーを使用することで行います。デフォルト環境設定を、[プロジェクト環境設定] (Project Preferences) > [エディタ] (Editor) から設定することも可能です (図1.2.b 参照)。

図1.2.b. プロジェクト環境設定のエディタ設定

1.3 Zemax ファイル収集ツール (すべてのエディション)

Zemaxサポートへのエラー報告を単純化・自動化
[Zemax ファイル収集ツール] (Zemax File Collector) により、クラッシュやその他のエラーの報告プロセスが単純化されます。ファイル収集ツールで生成されるパッケージを、Zemaxサポートに送信することで、問題の検証と解決を効率的に行うことができるようになります。
本ツールは、ユーザーのシステム環境やインストールされたソフト、実行中のプロセスなど、診断に必要なファイルやデータを自動的に収集します。その他、クラッシュやエラーに際する追加情報やデータを含めることも可能です。また、どのようなデータが収集されたかを閲覧することができます。(1.3.a参照)。

図1.3.a. Zemax ファイル収集ツールで収集されたファイルと情報
光学系の設計など機密ファイルである可能性のある項目は個別にリストされ、選択を解除することが可能です。[テクニカルサポートへEmail] (Email Technical Support) ボタンを押下することで、簡単にZemaxへデータを送信することができます。
[Zemax ファイル収集ツール] (Zemax File Collector) は、[ヘルプ] (Help) タブにある [ユーティリティ] (Utilities) グループにあります (図1.3.b 参照)。

図1.3.b. ヘルプ タブにあるZemaxファイル収集ツールボタン

1.4 ポップアップ エディタの更新 (すべてのエディション)

材質の透過率や屈折率データ編集をより簡単に
[材料カタログ] (Materials Catalog) の [透過率] (Transmission) エディタと [屈折率データのフィッティング] (Fit Index Data) エディタが新しくなり、より直感的な動作が可能になりました (図1.4.a および 1.4.b 参照)。レンズデータ エディタなどの主要エディタと同様の機能を持ち、行の削除や挿入、ウィンドウサイズの調整を簡単に行うことができるようになりました。また、データは、短波長から長波長へ自動で並び替えられます。


図1.4.a.材料カタログにある新しい「透過率」エディタ

図1.4.b. 材料カタログにある新しい「屈折率データのフィット」エディタ
[材料カタログ] (Materials Catalog) は、[ライブラリ] (Libraries) タブの [光学材料] (Optical Materials) グループから開くことができます(1.4.c 参照)。

図 1.4.c. ライブラリ タブにある材料カタログ

2.1 最大・最小入射角オペランド (すべてのエディション)

よりシンプルなメリットファンクションでデータ入力エラーを削減
グリッド状でサンプリングされた光線で面に対する光線の入射角を制限するには、波長や視野ごとに定義する必要もあり、MFE上で多数行を要します。このようなプロセスでは、データ入力エラーが発生しやすくなります。新しく導入されたMNAI およびMXAI オペランドを使用することで、マクロや複合オペランドを使用することなく、瞳の端で発生する問題となる光線を制御することができるようになりました。

図2.1.a.メリットファンクション エディタに入力された MNAI および MXAI オペランド
本オペランドは、マージナル光線と主光線を追跡し、範囲内の面での最大・最小入射角を求めます (図2.1.a 参照)。一般的な光学系では、問題となる光線は瞳の端で発生します。軸上屈折性光学系では最大入射角を制限することが重要になり、軸外光学系では最小入射角で最適化を行うことで設計の向上を図ることができます。

2.2 ゴースト光線入射角オペランド(すべてのエディション)

光学系のゴースト反射による影響を削減
ゴースト反射による全反射は、特にセンサーベースの結像光学系で問題となります。新しく導入されたGAOI オペランドで、シーケンシャル モードのゴースト反射を制御できるようになりました。

図2.2.a. メリットファンクション エディタに入力されたGAOI オペランド
本オペランドは、指定された面で二重バウンスのゴースト反射をした光線の入射角 (AOI) を求めます(図2.2.a参照)。本オペランドで追跡されるゴースト系は、[ゴースト解析] (Ghost Focus Generator) ツールで追跡されるゴースト系と同じです。

2.3 POP解析のビーム幅表示 (Professionalおよび Premium)

コヒーレント光学ビームのビーム幅を素早く確認
[物理光学伝搬] (Physical Optics Propagation) (POP) 解析プロットの下枠内テキストに、ビーム幅が表示されるようになりました。以前は、ビーム幅の確認には、メリットファンクション エディタでPOPD最適化オペランドを入力する必要がありました (図 2.3.a参照)。

図2.3.a. XおよびY方向のビーム幅を表示した物理光学伝搬解析
ビーム幅は、ビームの二次モーメントをもとに計算されています。これはガウシアンのビーム形状では、1/e2 強度での半径になります。POPDオペランドでは、Data値を23および 24 とすることで、それぞれXおよびY方向の二次モーメントが計算されます。
[物理光学伝搬] (Physical Optics Propagation) 解析は、[解析] (Analyze) タブの [レーザーとファイバー] (Laser and Fibers) グループから開くことができます (2.3.b 参照)。

図2.3.b. 解析タブにある「物理光学」ボタン

2.4 デザインの固定ツールのマルチコンフィグレーション対応 (すべてのエディション)

マルチコンフィグレーションのシーケンシャル光学系でメカ解析や製造の準備
[デザインの固定] (Design Lockdown) ツールで、マルチコンフィグレーションの光学系を、製造システムで使用できるデータに変換できるようになりました (図2.4.a参照)。

図2.4.a. デザインの固定ツールのダイアログ ボックス
[デザインの固定] (Design Lockdown) ツールは、[公差] (Tolerance) タブにある [製造ツール] (Production Tools) グループから開くことができます(2.4.b 参照)。

図2.4.b.公差タブにある「デザインの固定」ボタン
[ファイル] (File) タブにある [変換] (Convert) グループの [NSCグループに変換] (Convert to NSC Group) ツールからも使用できます。

3.1 ZOS-API の波面収差解析 (Professionalおよび Premium)

ZOS-APIでフリーフォーム設計を自動化し、可視化ルーティンを作成
ZOS-API から、最近のバージョンでの追加解析機能である [コントラスト ロスマップ] (Contrast Loss Map) と [全視野収差] (Full-Field Aberration) を呼び出すことができるようになりました (図 3.1.a参照)。

図3.1.a. 最近追加された解析機能:コントラスト ロスマップ(左)と全視野収差(右)
以下は各解析のシンタックス例文になります。
[コントラスト ロス マップ] (Contrast Loss Map)
· C#: ZOSAPI.Analysis.IA_ newWin = TheSystem.Analyses.New_Analysis(ZOSAPI.Analysis.AnalysisIDM.ContrastLoss);
· C++: IA_Ptr newWin = TheSystem->Analyses->New_Analysis(AnalysisIDM::AnalysisIDM_ContrastLoss);
· MATLAB: newWin = TheSystem.Analyses.New_Analysis(ZOSAPI.Analysis.AnalysisIDM.ContrastLoss);
· Python: newWin = zosapi.TheSystem.Analyses.New_Analysis(constants.AnalysisIDM_ContrastLoss)
[全視野収差] (Full-Field Aberration)
· C#: ZOSAPI.Analysis.IA_ newWin = TheSystem.Analyses.New_Analysis(ZOSAPI.Analysis.AnalysisIDM.FullFieldAberration);
· C++: IA_Ptr newWin = TheSystem->Analyses->New_Analysis(AnalysisIDM::AnalysisIDM_FullFieldAberration);
· MATLAB: newWin = TheSystem.Analyses.New_Analysis(ZOSAPI.Analysis.AnalysisIDM.FullFieldAberration);
· Python: newWin = zosapi.TheSystem.Analyses.New_Analysis(constants.AnalysisIDM_FullFieldAberration)
詳細についてはZOS-API シンタックス ヘルプを参照してください(図 3.1.b参照)。

図3.1.b. ZOS-APIシンタックス ヘルプ ダイアログボックス のIAS_ContrastLossMap (左)およびIAS_FullFieldAberration (右)
[ZOS-API シンタックス ヘルプ] (ZOS-API Syntax Help) は、[プログラミング] (Programming) タブから開くことができます (図1.3.c 参照)。


図1.3c. プログラミング タブにあるZOS-API ヘルプ メニュー

3.2 ZOS-API シーケンシャル最適化ウィザード機能の簡素化 (Professionalおよび Premium)

正しいメリットファンクションで最適化自動化ルーティンをZOS-APIで作成
OpticStudio 17.5 で簡素化された最適化ウィザードが、ZOS-APIにも適用されました (図 3.2.a 参照)。

図3.2.a. メリットファンクション エディタの最適化ウィザード
以下はシンタックス例文になります。
· C#: ZOSAPI.Wizards.ISEQOptimizationWizard2 optWizard = TheSystem.MFE.SEQOptimizationWizard2;
· C++: ISEQOptimizationWizard2Ptr optWizard = TheSystem->MFE->SEQOptimizationWizard2;
· MATLAB: optWizard = TheSystem.MFE.SEQOptimizationWizard2;
· Python: optWizard = TheSystem.MFE.SEQOptimizationWizard2
詳細についてはZOS-API シンタックス ヘルプを参照してください(図 3.2.b 参照)。

図 3.2.b. ZOS-API シンタックス ヘルプ ダイアログ ボックスのISEQOptimizationWizard2

4.1 ライセンス マネジャー (すべてのエディション)

最新のライセンス マネジャーを取得
[Zemaxライセンス マネジャー] (Zemax License Manager) で、ライセンスの期限切れ、およびサポートの期限切れが表示されるようになりました (図 4.1.a参照)。また、ソフトキー ライセンスのアクティベーションやトランスファー時の失敗を防ぐため、エラー確認機能が向上しました。

図4.1.a.キーのサポート期限日を表示したZemax ライセンス マネジャー
本変更内容は、OpticStudio、およびスタンドアローンのZemaxライセンス マネジャーに反映されています。OpticStudioのネットワーク ソフトキーおよびネットワーク赤USBライセンスをホストしている場合は、最新のZemaxライセンス マネジャーに更新することで、本新機能を使用することができます。

4.2 材料(すべてのエディション)

Ohara, Redwave, CDGM, Nikon-Hikari, Schott, AMTIRから最新の材料カタログを入手
Ohara材料カタログに、次の5硝材が新しく加わりました:S-LAH98, S-LAH99, S-LAL21, S-NPH7, S-NBH58 (図4.2.a参照)。また、L-BAL43のdPgF値が-0.0043に更新され、材質のステータスがコメント欄に示されるようになりました。

図4.2.a. Ohara材料カタログ
新たにRedwave ガラスがOpticStudio の材料カタログ追加されました (図4.2.b.参照)。本カタログには、4の新硝材が含まれています。

図4.2.b. Redwaveガラスの材料カタログ
CDGM 材料カタログに、次のガラスが加わりました: H-BaK7A, H-ZK7A, H-ZF1A, H-ZLaF69A, HWS5, HWS7 (4.2.c.参照)。H-FK71 およびH-QK1 の溶解頻度と相対コストが更新され、H-BaK1 およびH-ZK50 の透過率が修正されました。また、H-K9LGT のステータスが [標準] (Standard) に設定されました。

図4.2.c. CDGM 材料カタログ
NikonおよびHikari材料カタログが統合され、Nikon-Hikari 材料カタログになりました(図4.2.d 参照)。新カタログでは、古い材料の熱屈折率係数の有効桁数が3に変更されました。

図4.2.d. Nikon-Hikari材料カタログ
Schott材料カタログの透過率データや相対コスト等の補助データが更新されました(図4.2.e参照)。

図4.2.e. Schott 材料カタログ
Schott IRG 材料カタログに新しくIRG27 材質が追加されました(図4.2.f 参照)。最新の熱データも追加されました。

図4.2.f. Schott IRG 材料カタログ
OpticStudio 18.7 に3硝材を含むAMTIR の材料カタログが新しく追加されました (図4.2.g 参照)。本カタログには、以前Infrared 材料カタログに含まれていた材料が含まれています。

図4.2.g. AMTIR材料カタログ
Infrared 材料カタログの参照温度および文献情報が、数か所更新されました(図4.2.h参照)。本カタログのSchott 材料は [旧式] (Obsolete) に更新され、 [代替の対象外] (Exclude Substitution) が選択されています。代わりに、Schott材料カタログの材料を使用することをご検討ください。

図4.2.h. Infrared 材料カタログ
IR Photonics 社は現在存在しないため、IR Photonics材料カタログのUVIR 材料が [旧式] (Obsolete)に更新されました (図4.2.i参照)。

図4.2.i. IR Photonics 材料カタログ
[材料カタログ] (Materials Catalog) は、[ライブラリ] (Libraries) タブの [光学材料] (Optical Materials) グループから開くことができます (4.2.j 参照)。

図4.2.j. ライブラリ タブにある材料カタログ ボタン

4.3 レンズ(すべてのエディション)

Thorlabs および Edmund Opticsから最新のレンズ カタログを入手
Thorlabs レンズ カタログに新しいレンズが追加されました(図4.3.a参照)。カタログには、3114のレンズが含まれるようになりました。

図4.3.a. Thorlabs レンズ カタログ
Edmund Optics レンズ カタログが、現在利用可能な市販レンズを含むように更新されました(図4.3.b参照)。新しいカタログには、全部で9299のレンズが含まれるようになりました。

図4.3.b. Edmund Optics レンズ カタログ
[レンズ カタログ] (Lens Catalog) は、[ライブラリ] (Libraries) タブの [市販部品] (Stock Parts) グループから開くことができます (4.3.c 参照)。

図4.3.c.ライブラリ タブにあるレンズ カタログ ボタン

4.4 原器リスト (すべてのエディション)

Sill Opticsから最新原器リストを取得
Sill Optics 社により、Sill Optics-Tools.tpd が削除され、更新バージョンSill Optics-Test Plates.tpdが新しくインストーラに追加されました(図4.4.a参照)。本原器リスト内のデータには、新装置での測定結果により、更新されている部分があります。

図4.4.a. Sill Optics 原器リスト
[原器リスト] (Test Plate Lists) は、[ライブラリ] (Libraries) タブの [市販部品] (Stock Parts) グループから開くことができます(4.4.b 参照)。

図4.4.b.ライブラリ タブにある原器リスト ボタン

5 Zemax ラボ

5.1 新機能の試行:公差解析データの保持(すべてのエディション)

新機能の閲覧と候補機能の試行
[Zemax ラボ] (Zemax Lab) から、[新機能の試行] (Feature Experiments) が可能です。本機能は実装前に変更が加わる可能性が高く、またヘルプファイルにはまだ文書化されていません。
[公差解析データの保持] (Retain Tolerancing Data)機能は、公差解析ツールを強化する機能で、公差解析データの後処理工程を大幅に単純化することができます。公差解析実行時の全データをディスクに保存し、外部で解析することが可能になります。必要であれば、異なるPCでの解析も可能です。
感度解析およびモンテカルロ解析では、使用オペランド、コンペンセータ、基準値が全て収集され、表形式で表示されます。結果は、[モンテカルロ] (Monte Carlo)、[感度] (Sensitivity)、[要約] (Summary)の3つのタブで表示されます。要約のタブには、現行の形式での公差解析の結果が示されます。出力されたそれぞれの列データについて、統計がレポートされます(図5.1.a参照)。

図5.1.a. 表形式の公差解析結果(左)および各オペランドの統計要約 (右)
表形式のデータをコピーし、Excel形式やテキスト形式のファイルに貼り付けることができます。公差解析の結果を、バイナリ形式のZemax公差解析データファイル(*.ZTD)にエクスポートすることが可能です。また、[公差解析のインポート] (Import Tolerance Data) 機能を使用しインポートすることも可能です。本機能を使用するには、本ツール設定内の [公差解析データを保持] (Retain Tolerancing Data) チェックボックスにチェックを入れてください (図5.1.b 参照)。

図5.1.b. 公差解析データを保持オプションが選択された公差解析ツール
[公差解析データの保持] (Tolerancing Data Retention) 機能は、[ヘルプ] (Help) タブにある [Zemax ラボ] (Zemax Lab) グループの [新機能の試行] (Feature Experiments) メニューから開くことができます(5.1.c 参照)。

図5.1.c. Zemaxラボ グループある新機能の試行メニュー
本機能および他の試行機能について、Zemaxフォーラムへフィードバックをお寄せください。このため、 フォーラムに新セクション を設けました。本セクションは、[新機能の試行] (Feature Experiments) メニューにある [フィードバックを送信] (Provide Feedback) ボタンから開くことも可能です。追加機能のリクエストや、どのようなデータの可視化をご希望かなど、ご要望をお聞かせください。

5.2 調査アンケート (すべてのエディション)

Zemaxの未来を形作る
OpticStudio 18.7をご使用いただいているユーザー様より、光学系や照明系の設計に際するご要望をお寄せいただくため、調査アンケートの機能を設けました。調査結果は、弊社のロードマップの更新やOpticStudio開発計画に使用されます。
本アンケートは、[ヘルプ] (Help) タブにある [Zemaxラボ] (Zemax Lab) グループから開くことができます(図5.2.a 参照)。

図5.2.a. ヘルプ タブにある調査アンケート ボタン

6 パフォーマンスおよび安定性の改善

OpticStudio 18.7 には、以下の機能強化が含まれています:
シーケンシャル ツールと解析
· [DXF 2Dへのエクスポート] (Export 2D DXF) – [DXF 2Dへのエクスポート] (Export 2D DXF) ツールに、チップゾーンのエクスポート機能が追加されました。
· [Code VをOpticStudioに変換] (Convert Code V to OpticStudio) – プライベートガラスの変換機能の向上等、Code VをOpticStudioに変換するマクロが、数か所更新されました。
· [ノンシーケンシャル コンポーネント] (Non-Sequential Component) – [ノンシーケンシャル コンポーネント] (Non-Sequential Component) 面に、[逆伝搬距離] (Back Propagation Distance) と呼ばれる新しいパラメータが追加されました。この距離が0より大きい値に設定されている場合は、光線がノンシーケンシャル コンポーネントに入射する前に逆伝搬します。
· [物理光学伝搬] (Physical Optics Propagation) – [メリットファンクション エディタ] (Merit Function Editor) で複数行のPOPDオペランドが行間なく定義されているか、もしくは間にBLNKオペランドのみが定義されている場合に、[物理光学伝搬] (Physical Optics Propagation) が一度のみ実行されるようになりました。以前までは、メリットファンクション エディタのPOPD各行において物理光学伝搬が実行されていました。
· [NSCグループに変換] (Convert To NSC) – [NSCグループに変換] (Convert To NSC) ツールにおいて、マルチコンフィグレーションのシーケンシャル ファイルの変換時にPRESオペランドがサポートされるようになりました。
· [幾何光学的像解析] (Geometric Image Analysis) – [幾何光学的像解析] (Geometric Image Analysis) 機能のコメント欄に、解析設定で「主光線」参照が選択されているにも関わらず主光線が追跡できない場合に、コメントが表示されるようになりました。このような場合には、代わりに「面の頂点」が参照として使用される旨のコメントが示されます。
· SVIG オペランド – SVIGメリットファンクション オペランドで精度フラグを1に設定した際のサンプリングが4倍に増強されました。

7 バグ修正

OpticStudio 18.7 には、以下のバグ修正が含まれています:
シーケンシャル ツールと解析
· [公差解析スクリプト] (Tolerance script) – 公差スクリプトで出力データをバイナリファイルに書き出す際に、公差解析がマルチスレッド化されない問題について修正されました。
· [グリッド最適化] (Grid Optimization) – [グリッドサグ] (Grid Sag) 面の最適化機能の試行で、評価関数が最適化中に増加する問題について修正されました。この問題は、グリッドサグ面の曲率が変数に設定され、光学系の近軸パワーに依存するオペランドがメリットファンクション エディタに定義されている場合のみに起こっていました。
· [市販レンズ マッチング] (Stock Lens Matching) – 光学系のミラー空間で起こっていた [市販レンズ マッチング] (Stock Lens Matching) ツールの問題が修正されました。
· [視野に対するゼルニケ係数] (Zernike Coefficients vs. Field) – セオドライト角度タイプの視野を使用した光学系で起こる [視野に対するゼルニケ係数] (Zernike Coefficients vs. Field) 解析の問題が修正されました。
· [バイコーニック ゼルニケ] (Biconic Zernike) 面 – [バイコーニック ゼルニケ] (Biconic Zernike) 面を含む光学系で起こっていた有効焦点距離計算の問題が修正されました。
· ペッツヴァール半径 – 像面に材質が定義されている場合に、ペッツヴァール半径が像面上で正しく計算されない問題について修正されました。
· [シェーデッドモデル] (Shaded Model) – 解析ウィンドウに0でないオフセット値を入力している場合に起こる、シェーデッドモデルのユーザー定義アパチャー表示の問題について修正されました。
· FFT MTF 解析 – FFT MTF プロットが公差解析のモンテカルロ実行でオーバーレイされた後に、ダブルクリックで更新されない問題について修正されました。
ノンシーケンシャル ツールと機能
· [ディテクタ(面)] (Detector surface) – ZRDファイルからデータを読み込み、スムージングを適用した際に、[ディテクタ(面)] (Detector Surface) オブジェクトでデータが正しく表示されない問題について修正されました。
· [ブール ネイティブ] (Boolean Native) – [ブール ネイティブ] (Boolean Native) オブジェクトで、親オブジェクトの一つが [球] (Sphere) オブジェクトである場合に、光線追跡が正しくない問題について修正されました。
プログラミング
· TOLERANCE キーワード – ZPL キーワード TOLERANCE の出力が全公差解析結果を含んでない問題について修正されました。
· [回折エンサークルド エネルギー] (Diffraction Encircled Energy) – [回折エンサークルド エネルギー] (Diffraction Encircled Energy) 解析のENUM値で、最大サンプリング数がZOS-APIでサポートされていない問題について修正されました。
· ConfigurationNumber 属性 –ZOS-API 属性 “ConfigurationNumber” がCOM (例えばC++ やPython)を介して使用可能になりました。
· SetMulticon データアイテム – DDEの SetMulticon データアイテムに関わる問題について修正されました。
ライブラリ
[センチネルLDKランタイム] (Sentinel LDK Runtime) のバージョンが7.80に更新されました。小規模なバグ修正が数件含まれています。最も際立った修正内容として、LDKインストールに長時間(10分程度までの)要していた問題が修正されました。これにより、OpticStudioのインストール工程も高速化されます。
また、Kasperskyにより報告されていた、セキュリティ脆弱性に関するパッチも含まれています。これにより、Windowsのファイアウォールのパブリック ネットワークが無効化されます。このため、ネットワーク ライセンスの使用はネットワーク内部のユーザーのみに限定され、セキュリティ リスクは回避されます。必要であれば、パブリック ネットワークを再度有効にすることが可能です。

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